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產(chǎn)品中心

無(wú)掩膜光刻機

  • 型 號:UTA-IA
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數:2729
  • 更新時(shí)間:2024-03-13
  • 價(jià)   格:

無(wú)掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無(wú)掩模曝光系統,其傳統系統(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統) 可以使用專(zhuān)門(mén)為此目的開(kāi)發(fā)的軟件來(lái)創(chuàng )建想要的圖案。

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無(wú)掩膜光刻機裝置概述:

  • 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

  • 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀,將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。

  • 圖案可以在PC上自由創(chuàng )建。

  • 因為可以在普通的室內環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。


無(wú)掩膜光刻機應用:

  • 薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。

  • 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

  • 研發(fā)應用的圖案形成。


參數:

  • 由于顯微鏡和DLP的結合,可以用很低的成本來(lái)構建系統。

  • 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng )建曝光圖案。

  • 通過(guò)物鏡放大倍率圖案,可以進(jìn)行大范圍的批量曝光。

  • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項)。

  • 分辨率在微米級。

  • 曝光范圍:大2.5mm×1.5mm   小100um×60um。

  • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項)。

  • 分辨率在微米級。

  • 曝光范圍:大2.5mm×1.5mm  小100um×60um。

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